近日，根据最新消息，随着光刻机研发被提升到新高度，我国的光刻技术已经取得了重要突破，随着超高精度的光刻机在国内逐渐立项研发，我国的光刻机技术也越来越先进。众所周知，美国在芯片上一直在打压国内的高端企业，如果不是美国的持续施压，国内的光科技技术也不可能进步的如此之快，很多网友都表示，我们应该感谢特朗普政府的打压，所以任何事情都具有两面性。

世界上最先进的光刻机是诞生在荷兰，但是这种先进技术的集合体却不是荷兰一家能够生产出来的，Euv是光刻机的重要部件，随着中科院宣布光刻机技术有了巨大的突破，我们也发现一个重要的突破点，让我们在生产五纳米芯片的时候不需要Euv技术。

对于大部分人来说，光刻机对他们只是一个模糊的概念，虽然我们使用的手机都有芯片，但是对于普通人来说，芯片也仅仅只是一个名词，毕竟他们不知道芯片是如何生产的。就算大家知道光刻机是制造芯片的设备，其中的原理到底是怎样的，相信大多数人都非常模糊。随着华为5g技术被美国政府封锁，我们也清醒地认识到一个问题，所谓的技术无国界都是骗人的，因为美国的很多高端科技都不允许出口到中国，所以我们一定要自强自立，尤其是在很多高端技术方面，一定要掌握核心科技，只有这样才不会受制于人。

目前来看，荷兰已经禁止高端光刻机出口到中国，其实光刻机里面的很多高精尖技术都是无法复制的，这一点大家都非常清楚，就算荷兰选择将光刻机卖给中国，想要简单的复制出来也是非常困难的，毕竟这是很多高端科技的集合体，同时里面的很多精密零部件也不是一个国家能够全部生产出来的，可以这样说，光刻机是一个万国集合体。

中科院在研究光刻机的道路上独辟蹊径，因为他们心里非常清楚，想要完全复制西方发达国家的道路，需要走的弯路还有很多，如果我们根据自己国家的国情，研发出一套独特的光刻机技术，那么我们就有可能弯道超车，赶超西方发达国家的技术堵截。本次光刻机技术突破主要是针对集成电路的光子芯片，目前来看，我们正在将光刻机技术分解，只有一点一点慢慢的突破，最终才能够实现质的飞跃，相信经过我们的努力，光刻机的问世只是时间问题。

关键词： 中科院 光刻机 进展